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Präkursoren für die Lösungs- & Dampfabscheidung

Die Lösungs- und Dampfabscheidung sind zwei Synthesewege, die für die Herstellung von hochentwickelten Präzisionsdünnfilmen und Beschichtungen eingesetzt werden.

Die chemische Lösungsabscheidung und chemische Dampfabscheidung sind zwei leistungsstarke Techniken zum Bilden hochwertiger und präziser fester Dünnschichten und Beschichtungen. Die Lösungsabscheidung, auch als Sol-Gel-Verfahren bekannt, ist ein beliebtes Verfahren zum Herstellen eines breiten Spektrums anorganischer und hybrider Kompositmaterialien aus Vorläuferlösungen. Eine kolloidale Suspension, die als „Sol“ bekannt ist, wird hergestellt, zu einem Gel und anschließend zu einem Feststoff umgewandelt. Die Dampfabscheidung nutzt jedoch eine Reihe von Techniken zum Umwandeln und setzt Vorläufer oder Zielmaterial in der Gasphase ein, um entwickelte Folien auf Substraten zu bilden. Unsere Auswahl an Produkten für Abscheidungstechniken ermöglicht Ihnen das genaue Anpassen von Dünnschichten und ihren Beschichtungseigenschaften. Sehen Sie sich unser breites Spektrum von hochwertigen und verlässlichen Dünnschichtabscheidungsvorläuferchemikalien für Ihre gewählte Methode und Anwendung an.


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Vorläufer für die Lösungsabscheidung

Wir bieten eine breite Palette spezieller Lösungsabscheidungsvorläufer an: Sie sind mit 55 verschiedenen Basismetallen sowie Acetat, Acetylacetonat, tert-Butoxid, Isopropoxid, Phenoxid, Ehtodix, tri-sec-Butoxid und 2-Ethylhexanoat in Kombination mit einer Reihe anderer Funktionalitäten erhältlich. Diese Produkte werden in Reinheitsgraden von 90 % bis 99,999 %, in verschiedenen Konzentrationen in ausgewählten Lösungsmitteln und mit spezifischen hydrierten Formen angeboten, um Ihre eigene dedizierte Chemie zu unterstützen.

Vorläufer für die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) / Vorläufer für die Atomlagenabscheidung (ALD)

Wir liefern hochwertige flüchtige metallorganische Vorläufer, Metallvorläufer und metallorganische Vorläufer für CVD/ALD. Aus Komfort- und Sicherheitsgründen sind diese Vorläufer in Stahlzylindern für die Verwendung in einer Reihe von Abscheidungssystemen verpackt.

Materialien für die physikalische Gasphasenabscheidung

Bei der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) wird verdampftes Material aus einem festen Ausgangsmaterial verwendet, um Dünnschichten auf ein Substrat aufzubringen. Wir bieten hochreine Sputtertargets, Pellets, Metallfolien und Verdampfungskerne für verschiedene PVD-Anwendungen an. Darunter mikroelektronische Geräte, Batterieelektroden, Diffusionsbarrieren und optische Beschichtungen.



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