Przejdź do zawartości
Merck

773700

Sigma-Aldrich

Graphene, monolayer film

1 cm x 1 cm on SiO2/Si substrate, avg. no. of layers, 1

Synonim(y):

Jednowarstwowy arkusz grafenu

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych

About This Item

Kod UNSPSC:
12352103
NACRES:
NA.23
Pomoc techniczna
Potrzebujesz pomocy? Nasz zespół doświadczonych naukowców chętnie Ci pomoże.
Pozwól nam pomóc
Pomoc techniczna
Potrzebujesz pomocy? Nasz zespół doświadczonych naukowców chętnie Ci pomoże.
Pozwól nam pomóc

Product Name

Monolayer graphene film, 1 cm x 1 cm on SiO2/Si substrate, avg. no. of layers, 1

Poziom jakości

Formularz

film

Właściwości

avg. no. of layers 1

opór

600 Ω/sq

dł. × szer. × grubość

1 cm × 1 cm × (theoretical) 0.345 nm, monolayer graphene film
1 cm × 1 cm × 525 μm, SiO2/Si substrate

Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów

Powiązane kategorie

Opis ogólny

Graphene film
Growth Method: CVD synthesis
Transfer Method: Clean transfer method
Quality Control: Optical Microscopy & Raman checked
Size: 1 cm x 1 cm
Appearance (Color): Transparent
Transparency: >97%
Appearance (Form): Film
Coverage: >95%
Number of graphene layers: 1
Thickness (theoretical): 0.345 nm
FET Electron Mobility on Al2O3: 2; 000 cm2/V·s
FET Electron Mobility on SiO2/Si (expected): 4; 000 cm2/V·s
Sheet Resistance: 600 Ohms/sq.
Grain size: Up to 10 μm

Substrate
Size: 1.25 cm x 1.25 cm
Type/Dopant: P/B
Orientation: 100
Growth Method: CZ
Resistivity: 1-30 ohmcm
Thickness: 525 +/- 25μm
Front Surface: polished
Back Surface: etched
Coating: 300 nm thermal oxide on both wafer sides
Graphene is a unique one atom thick, two dimensional allotrope of carbon. Among all the synthesis technique, chemical vapor deposition of graphene on various substrates is the most promising route for the large scale production of good quality graphene. Graphene deposited on dielectric surface may exhibit better performance in graphene based FETs. Graphene deposited on SiO2/Si may be deposited by direct chemical vapor deposition via a sacrificial copper film.
Sheet resistance measurements were performed in a vacuum chamber to ensure their reproducibility, within a four-point configuration (van der Pauw geometry, silver paint contact) with injection of currents above 10uA
Ta strona może zawierać tekst przetłumaczony maszynowo.

Piktogramy

Health hazardExclamation mark

Hasło ostrzegawcze

Danger

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

Zwroty wskazujące środki ostrożności

Klasyfikacja zagrożeń

Eye Irrit. 2 - STOT RE 1 Inhalation - STOT SE 3

Organy docelowe

Lungs, Respiratory system

Kod klasy składowania

6.1D - Non-combustible acute toxic Cat.3 / toxic hazardous materials or hazardous materials causing chronic effects

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

WGK 3

Temperatura zapłonu (°F)

Not applicable

Temperatura zapłonu (°C)

Not applicable


Wybierz jedną z najnowszych wersji:

Certyfikaty analizy (CoA)

Lot/Batch Number

Nie widzisz odpowiedniej wersji?

Jeśli potrzebujesz konkretnej wersji, możesz wyszukać konkretny certyfikat według numeru partii lub serii.

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej